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SnO2薄膜的脉冲激光沉积
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O484

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国家自然科学基金


Pulsed Laser Deposition of SnO_2 Thin Films
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    采用脉冲激光沉积技术制备了ＳｎＯ２薄膜。Ｘ射线衍射结构分析表明薄膜为非晶态。在６００℃温度下退火后，由非晶薄膜转变为多晶薄膜。研究了多晶ＳｎＯ２薄膜的光电特性。在４００ｎｍ至７００ｎｍ的可见光范围内，其透过率保持在７０％到９０％。电阻率为１．９×１０－１Ωｃｍ。

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引用本文

张兵临,覃东杰,徐彬,李运钧,张兰. SnO2薄膜的脉冲激光沉积[J].光电子激光,1995,(1):39~42

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