错位相移技术研究
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TH744.3

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北京市自然科学基金


The Study of Phase Sheargraphy
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    摘要:

    本文在充分错位技术与相移技术的基础上,提出了一种基于偏振的错位技术和相移技术,并将二者结合起来,实现了错位与相移的结合,制作了出错位相移器,最后将错位相移器应用于集成电路硅片薄膜应力分布测试仪及错位电子散斑干涉仪之中。

    Abstract:

    Based on the discussion of Phase shift and Sheargraphy,a new polarized method for Phase shift and a polarized method for Sheargraphy are proposed.There combination realizes the compact of Phase shift and Sheargraphy,which is called Phase sheargraphy.This technic has been used in the instrument of IC wafer Stress Analyzer and Shear Electronic Speckle Pattern Interferometry(SESPI).

    参考文献
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    引证文献
引用本文

史红民 王昊.错位相移技术研究[J].光电子激光,1998,(2):124~126

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