大统计斜率随机表面光散射的Monte Carlo数值模拟
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O436.2

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    本文在Kirchhoff近似的基础上,通过Monte Carlo数值模拟,分析了大统计斜率随机表面的单次和二次散射。数值结果证明了导体和介质表面均存在起因于多次散射的后向增强散射,入射光的偏振状态对介质表面散射特征有明显的影响。数值结果与实验报导有很好吻合。

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郑小兵 魏庆农.大统计斜率随机表面光散射的Monte Carlo数值模拟[J].光电子激光,1998,(3):227~231

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