半导体硅片表面缺陷光反射“魔镜”检测技术
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TN304.12 TN247

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Optical Reflection"Magic-mirror"Detecting Technique for Detecting Surface Defects of Semiconductor Silicon Wafers
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    本文报道应用古代“魔镜”成像原理和现代激光技术发展起来的一种新的光反射“魔镜”检测技术。采用这项技术可以非常直观,方便地观测到直径小于150mm的硅抛光片及硅外延片表面存在的缺陷情况,其分辨率为0.5μm,由于光反射“魔镜”检测技术是一种新型的光学无损检测技术,具有探测灵敏度高,快速,无破坏性,大面积检测等优点,该项技术检测将会有更加广泛的应用前景。

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引用本文

颜彩蘩 王宏杰.半导体硅片表面缺陷光反射“魔镜”检测技术[J].光电子激光,1999,(1):50~52

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