nc-Si/SiO2多层薄膜的三阶非线性光学性质
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O484.41

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国家自然科学重大基金资助项目!( 698962 60 ),集成电子学国家重点实验室开放课题基金项目!( 11E0 1)


Third-order Optical Nonlinearity of nc-Si/SiO_2 Thin F ilms
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    用简并四波混频技术研究了 nc- Si/Si O2 多层薄膜的三阶非线性光学性质 ,观察到了位相共轭信号 ,测得实验用样品在光波波长为 5 89nm处的三阶非线性极化率χ( 3) 为 4.1× 10 - 7esu,并对该材料的光学非线性产生机理作了探讨。

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引用本文

郭震宁,郭亨群,何江流. nc-Si/SiO2多层薄膜的三阶非线性光学性质[J].光电子激光,2000,(4):359~361

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  • 最后修改日期:2000-03-22
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