用MOCVD方法生长940nm应变多量子阱发光二极管
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TN312.8

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MOCVD Growth of 940 nm Strained Multi-quantum Well Light Emitting Diodes
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    采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法设计并生长了应变多量子阱InGaAs/AlGaAs,并且对其进行了光致发光(PL)谱、双晶X射线衍射(DXRD)谱和电化学C-V等的测试。然后以InGaAs/AlGaAs作为有源层,以GaAs衬底作为透明衬底,p面金属电极AuBe合金作为镜面反射层,采用倒装技术制备了近红外发光二极管(LED)。在输入电流为20mA下的正向电压为1.2V左右,电致发光谱的峰值波长为938nm,10μA下的反向击穿电压为5-6V,在输入电流为50mA下得出输出功率3.5mW,对应电压为1.3V,在输入电流为300mA时得到最大输出功率为12mW。

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引用本文

于永芹 黄柏标 等.用MOCVD方法生长940nm应变多量子阱发光二极管[J].光电子激光,2002,(7):682~684

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  • 最后修改日期:2001-12-24
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