AlGaAs/AlAs体系DBR的MOCVD生长及表征
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TN304.2

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AlGaAs/AlAs DBR Growth by MOCVD and Its Uniformity
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    摘要:

    设计并利用MOCVD在(311)GaAs衬底上生长了12.5个周期的Al0.6Ga0.4As/AlAs黄绿光分布式Bragg反射(DBR)体系,测量了白光反光谱及其外延片峰值波长分布,反射率90%以上,波长不均匀性在1.0%以下;利用了X射线双晶衍射对其进行结构表征,580nm波长DBR结构周期为84.5nm。

    Abstract:

    Design and growing 12.5 period Al 0.6 Ga 0.4 As/AlAs distributed Bragg reflection (DBR) structure by MOCVD on (311) GaAs substrates.By white light reflection mapping,the peak reflect wavelength uniformity is about 1.0 %,and absolute reflection of these DBR can reach above 90 %,The structure was investigated by double crystal X ray diffraction,and the DBR period of 84.5 nm for 580 nm wavelength was obtained.

    参考文献
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引用本文

尉吉勇 黄伯标 等. AlGaAs/AlAs体系DBR的MOCVD生长及表征[J].光电子激光,2002,(8):781~783

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  • 最后修改日期:2001-12-28
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