在解复用模块设计中有效折射率变化的研究
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TN252

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国家自然科学基金重大课题资助(90104003),国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000036602)


Research on Demultiplexier Based on Change of Effective Index
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    研究了基于SOI(silicon—on—insulator)材料的阵列波导光栅(AWG)分波器件,给出了此器件材料色散的数值拟合公式,进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中刻蚀深度误差对波导有效折射率和波分复用模块性能的影响。结果表明,刻蚀深度误差对模块性能优劣起关键作用。

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引用本文

邱海军 刘育梁 李芳 贺月娇 田珂珂 辛红丽.在解复用模块设计中有效折射率变化的研究[J].光电子激光,2003,(11):1168~1170

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  • 最后修改日期:2003-01-07
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