碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性
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O484.42 TB383

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国家"863"计划(715 002 0042),国家自然科学基金(60278035),河南省自然科学基金(004042000)资助项目


Carbon Nitride Nanotube Thin Film and Its Field Emission Properties
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    利用微波等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃衬底上600℃~650℃的低温下制备出了碳氮纳米管薄膜,氮含量为12%,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子谱(XPS)和Raman光谱等测试手段对所制备薄膜的表面形貌、微结构和成分进行了分析,并研究了其场致电子发射特性,阈值电场为3.7V/μm。当电场为8V/μm时,电流密度为413.3μA/cm^2,实验表明该薄膜具有优异的场发射性能,而且用这种方法制备的薄膜将大大简化平板显示器件的制作工艺。

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引用本文

张兰 马会中 姚宁 杨仕娥 边超 胡欢陵 张兵临.碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性[J].光电子激光,2003,(8):779~782

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  • 最后修改日期:2003-01-14
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