采用无水化学沉积(NCBD)法在玻璃基片上制备了Sb2S3薄膜。先用无水乙醇将4．0mL浓度为0．1mol／L的SbCl3乙醇溶液稀释至39．6mL，再加入0．4mL浓度为0．5mol／L的CH3CSNH2乙醇溶液，搅拌均匀后垂直放入玻璃基片，在15～18℃温度下沉积72h后，进行退火处理。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜在退火前后的结构特性进行了研究，利用光学测试计算了薄膜的光学带隙。结果表明，高温退火使薄膜由退火前的非晶态转变为多晶的Sb2S3结构(正交晶系)，薄膜的直接光学带隙从1．86eV降低为1.75eV。