提出了光栅尺复制工艺中一种新的曝光方法———双向对接曝光法。根据光刻胶的曝光量与曝光时间成正比的关系,推导出光栅尺对接重合处任意一点的曝光量与其它各处的曝光量相同,由此提出采用双向对接曝光技术来解决曝光设备的导轨有效行程过短的问题。实验中,利用导轨有效行程为1.6m的曝光设备复制出测长为2.0 m的光栅尺,其最大线性误差为±17.0μm,完全满足使用要求。实验表明,采用双向对接曝光技术,曝光重合处的光栅线条完全满足测量要求,大幅度提高了曝光的有效行程,解决了曝光机导轨行程短的问题。