电子束刻蚀分步啁啾相位掩模板的优化
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TN305.7

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国家高技术研究发展计划(863计划);国家自然科学基金;北京市自然科学基金;教育部霍英东教育基金会高等院校青年教师基金;教育部跨世纪优秀人才培养计划


Optimization of Electron-beam-written Step-chirped Phase Masks to Improve Quality of the Chirped FBG
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    摘要:

    掩模板制造过程中采用的是分步啁啾方法,分步间长度容易出现误差,这种接缝误差是引起啁啾光纤光栅(CFBG)时延纹波的系统误差。理论分析了相位掩模板的接缝误差对CFBG时延纹波的影响。分析表明,对长度为140mm的掩模板采用1.4mm的步长,接缝误差影响最小。并进行了实验验证。

    Abstract:

    The chirped electron-beam written phase mask is fabricated by step-chirped method.The step-chirped phase mask is a useful and powerful device to realize a nonlinearly or linearly stepwise chirped fiber grating with broad bandwidth.But the stitching errors of electron-beam written phase masks always occur between neighboring sections.The stitching errors can arouse the time delay ripple of chirped fiber Bragg gratings(CFBGs).The 140 mm CFBGs,which are written by using 2.0 mm,1.4 mm,1.0 mm and 0.5 mm stepwise chirped phase mask,have been studied by simulation and experiment.The best is the 1.4 mm step-chirped mask.The simulation agrees with the experiment well.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

宁提纲,裴丽,刘艳,谭中伟,童治,延凤平,简水生.电子束刻蚀分步啁啾相位掩模板的优化[J].光电子激光,2006,(12):1409~1412

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  • 收稿日期:2006-02-11
  • 最后修改日期:2006-04-10
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