MEH-PPV多层结构器件的制备及其谱红移和窄化
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TN383.1

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中国科学院资助项目;华南师范大学校科研和教改项目


Fabrication and Spectral Redshift and Line-narrowing of MEH-PPV Multilayer Devices
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    研制了一种基于ITO/PEDOT/P—PPV/MEH—PPV/PFO/Ba/Al的多层结构器件,实现MEH—PPV发光峰的窄化和红移。该器件使MEH—PPV发射峰的半高宽(FWHM)由纯MEH—PPV单层的91nm减小到32nm,发光峰相对于MEH—PPV单层的582nm红移了20nm,相应的色坐标(CIE1931)由单层的(0.56,0.33)变为(0.62,0.38)。这种窄化和红移归为聚合物多层界面间的共混稀释效应。

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引用本文

章勇,范广涵. MEH-PPV多层结构器件的制备及其谱红移和窄化[J].光电子激光,2006,(8):922~925

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  • 收稿日期:2005-12-30
  • 最后修改日期:2006-03-10
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