InP/GaAs异质外延及异变InGaAs光探测器制备
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TN366

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国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB314901);国际科技合作重点项目计划资助项目(2006DFB11110);高等学校学科创新引智计划资助项目(B07005);教育部新世纪人才支持计划资助项目(NCET-05-0111)


InP/GaAs Heteroepitaxy and Fabrication of Metamorphic InGaAs Photodetectors
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    借助超薄低温InP缓冲层,在GaAs衬底上生长出了高质量的InP外延层,在InP外延层中插入了15周期In0.93Ga0.07P/InP应变层超晶格(SLS),进一步阻断了失配位错穿透到晶体表面,提高了外延层的晶体质量,这样2.5 μm厚InP外延层的双晶X射线衍射(DCXRD)ω扫描半高全宽(FWHM)值降低至219 arcsec,该InP外延层的室温光荧光(PL)谱线宽度仅为42 meV.在此基础上,只利用超薄低温InP缓冲层技术就在半绝缘GaAs衬底上成功地制备出了长波长异变In0.53Ga0.47As PIN光电探测器,器件的台面面积为50 μm×50 μm,In0.53Ga0.47As吸收层厚度为300 nm,在3 V反偏压下器件的3 dB带宽达到了6 GHz,在1 550 nm波长处器件的响应度达到了0.12 A/W,对应的外量子效率为9.6%.

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引用本文

王琦,任晓敏,熊德平,周静,吕吉贺,黄辉,黄永清,蔡世伟. InP/GaAs异质外延及异变InGaAs光探测器制备[J].光电子激光,2007,(10):1143~11,451,149

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  • 收稿日期:2007-01-17
  • 最后修改日期:2007-04-02
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