生长停顿改善MOCVD生长InGaN/GaN多量子阱的特性
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TN303 TN304

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国家自然科学基金 , 北京市教委科研项目 , 北京市属市管高等学校人才强教计划


Effects of Growth Interruption on the Properties of InGaN/GaN MQWs Grown by MOCVD
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    摘要:

    利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)生长了InGaN/GaN多量子阱(MQWs)结构,研究了生长停顿对InGaN/GaN MQWs特性的影响.结果表明,采用生长停顿,可以改善MQWs界面质量,提高MQWs的光致发光(PL)与电致发光(EL)强度;但生长停顿的时间过长,阱的厚度会变薄,界面质量变差,不仅In组分变低,富In的发光中心减少,而且会引入杂质,致使EL强度下降.

    Abstract:

    InGaN/GaN MQWs structures were grown by MOCVD.The effects of the growth interruption time on the optical and structural properties of InGaN/GaN MQWs were investigated.The growth interruption can improve the interface quality,increase the intensity of photoluminescence(PL) and electroluminescence(EL);but if the interruption time was too long,the well thickness and the average in composition of MQWs decreased,and the EL intensity also decreased due to poor interface quality and impurity derived by growth interruption.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

牛南辉,王怀兵,刘建平,刘乃鑫,邢燕辉,韩军,邓军,沈光地.生长停顿改善MOCVD生长InGaN/GaN多量子阱的特性[J].光电子激光,2007,(4):422~424

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  • 最后修改日期:2006-06-23
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