硫化的激光器腔面上溅射ZnS钝化膜的研究
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TN248.4

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国家自然科学基金


Research on ZnS passivating film with magnetron sputtering on sulfureted laser cavity surfaces
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    提出了一种新的激光器腔面钝化方法.先用(NH4)2S溶液硫化解理后的激光器腔面,然后使用磁控溅射方法对激光器的前腔面镀ZnS钝化膜、后腔面镀Si/SiO2高反射膜.ZnS钝化层光学厚度为λ/4,在中心波长为808 nm处透过率可达95.5%.钝化前激光器的光学灾变损伤(COD)阈值为1.6 W,钝化后为2.0 W,提高了25%倍;未镀膜的激光器阈值电流为0.25 A,经硫化再镀ZnS后阈值电流为0.20 A,降低了20%.实验结果表明,经硫化后溅射ZnS对激光器腔面具有良好的钝化和增透效果.

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引用本文

刘春玲,王春武,么艳平,薄报学.硫化的激光器腔面上溅射ZnS钝化膜的研究[J].光电子激光,2008,(1):14~16

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  • 收稿日期:2007-01-08
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