基于图形衬底生长的GaN位错机制分析
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中图分类号:

TN303 TN304

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国家自然科学基金 , 国家重点基础研究发展计划(973计划) , 国家高技术研究发展计划(863计划) , 北京市科委科研项目


Dislocation generation mechanism analysis of GaN grown on patterned sapphire substrate
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    采用缺陷选择性腐蚀法结合光学显微镜及原子力显微镜(AFM)对金属有机化合物气相外延(MOVPE)在蓝宝石图形衬底(PSS)上生长的非掺杂GaN体材料的位错产生机制进行了研究,分析结果表明,位错来源于三个方面:一是"二步法"生长机制引入的位错;二是是由于图形衬底上不同区域GaN晶体相互连接时由于晶面不连续所造成的位错群;三是由于图形衬底制作工艺过程中引入的表面污染与损伤.

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引用本文

江洋,罗毅,薛小琳,汪莱,李洪涛,席光义,赵维,韩彦军.基于图形衬底生长的GaN位错机制分析[J].光电子激光,2008,(4):478~481

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  • 最后修改日期:2007-04-10
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