纳米金刚石薄膜的制背
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O484.4

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国家自然科学基金 , 天津市自然科学基金 , 天津市科技发展基金 , 天津市自然科学基金


The fabrication of nano-diamond substrate for SAW device in high frequency and power
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    采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜.利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜的表面形貌和结构特征.该薄膜平均粒径约为20 nm.X射线衍射谱分析表明该薄膜具有立方相对称 (111)择优取向金刚石结构.在该薄膜一阶微显微拉曼光谱中,1 332 cm-1附近微晶金刚石的一阶特征拉曼峰减弱消失,可明显观测到的三个拉曼散射峰分别位于1 147 cm-1、1 364 cm-1和1 538 cm-1,与己报导的纳米金刚石拉曼光谱类似.该方法可制备出粒径约为20 nm粒度分布均匀致密具有较高含量的sp3键的纳米金刚石薄膜.

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引用本文

杨保和,崔建,熊瑛,陈希明,孙大智,李翠平.纳米金刚石薄膜的制背[J].光电子激光,2008,(5):625~627

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  • 最后修改日期:2006-10-03
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