首页 > 过刊浏览>2008年第卷第5期 >636-640
PDF HTML阅读 XML下载 导出引用 引用提醒
YAGG:Tb,Gd荧光薄膜及其发光性能的研究
DOI:
CSTR:
[cstr]
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O484.41

基金项目:

国家重点基础研究发展计划(973计划) , 天津市自然科学基金


Preparation and luminescence properties of YAGG:Tb,Gd thin films
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
    • |
  • 图/表
    • |
  • 访问统计
    • |
  • 参考文献
    • |
  • 相似文献
    • |
  • 引证文献
    • |
  • 资源附件
    • |
  • 文章评论
    摘要:

    用电子束蒸发方法在ITO基片上生长YAGG:Tb,Gd荧光薄膜,并经不同条件下退火处理.分别用X射线衍射、X 射线光电子能谱、扫描电子显微镜、光致发光谱,表征YAGG:Tb,Gd荧光薄膜的结构、成分、形貌、发光性能.实验表明随着温度的升高,薄膜的结晶程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,提高了薄膜的光致发光性能,同时发现光致发光谱中的谱线加宽.

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张晓松,董孝义,李岚,张艳芳,李江勇,董冬青. YAGG:Tb, Gd荧光薄膜及其发光性能的研究[J].光电子激光,2008,(5):636~640

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2007-06-07
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码
邮政编码：300384 电话：022-60214470
网址：http://www.joelcn.net E-mail：baenxu@263.net
技术支持：北京勤云科技发展有限公司
光电子激光 ® 2025 版权所有