MOCVD生长Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N多量子阱的结构和光学特性
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O471.1

基金项目:

国家自然科学基金资助项目(60576046); 河北省教育厅基金资助项目(Z2009316); 河北科技大学基金资助项目(XL200830)


The structral and optical properties of Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N MQWs gown by MOCVD
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上生长了Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N多量子阱(MQWs)结构。通过双晶X射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和阴极荧光(CL)等测试技术,分别对样品的结构和光学特性进行了表征。在DCXRD图谱中,可以观察到明显的MQWs衍射卫星峰,通过拟和,MQWs结构中阱和垒的厚度分别为2.1和9.4nm,Al组分分别为0.48和0.54。在AFM表面形貌图上,可以观察到清晰的台阶流,表明MQWs获得了二维生长;与此同时,MQWs结构存在一些裂缝,主要原因为AlGaNMQWs结构和下层GaN层间存在很大的应力。CL测试表明,AlGaNMQWs结构的发光波长为295nm,处于深紫外波段,同时观察到处于蓝光、绿光波段的缺陷发光。

    Abstract:

    Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N multiple quantum wells(MQWs)structure for deep ultraviolet emission has been grown on sapphire by metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD).Double crystal X-ray diffraction(DCXRD),atomic-force microscopy(AFM)and cathodoluminescence(CL)are used to characterize the structural and optical properties of MQWs,respectively.DCXRD shows that the multiple satellite peaks to 2nd order.The DCXRD simulation shows that the well and barrier thickness of MQWs are 2.1 nm and 9.4 nm,the Al co...

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王保柱. MOCVD生长Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N多量子阱的结构和光学特性[J].光电子激光,2009,(11):1454~1457

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码