快速热退火对电子束蒸镀的ITO膜光电特性影响
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国家重点基础研究发展规划(973计划)，国家高技术研究发展计划(863计划)，北京市人才强教计划?
The effect of RTA process on optical and electrical characters of E-beam evaporated ITO films
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张国伟,朱彦旭,李天磷,沈光地.快速热退火对电子束蒸镀的ITO膜光电特性影响[J].光电子激光,2009,(3):
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