利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜
CSTR:
作者:
作者单位:
作者简介:
通讯作者:
中图分类号:
TN248.4
基金项目:
国家自然科学基金资助项目(60636020,60676034,60476029,60577003,60876036,60706007)
Fabrication of GaAs-microlens by using diffusion-limited wet etching
Author:
Affiliation:
Fund Project:
引用本文
王贞福,宁永强,张岩,史晶晶,李特,崔锦江,刘光裕,张星,秦莉,刘云,王立军.利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜[J].光电子激光,2009,(6):
复制分享
文章指标
- 点击次数:
- 下载次数:
- HTML阅读次数:
历史
- 收稿日期:
- 最后修改日期:
- 录用日期:
- 在线发布日期:
- 出版日期:
文章二维码
