标准CMOS工艺栅控Si-LED设计与制备
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TN312.8

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国家自然科学基金资助课题(60536030,60676038); 天津市基础研究重点项目(06YFJZJC00200,08JCZDJC24100)


Design and fabrication of a gate controlled Si LED based on standard CMOS technology
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    摘要:

    采用新加坡半导体制备有限公司的0.35um EEPROM双栅标准CMOS工艺设计和制备了U型Si-LED发光器件。器件结构采用P+-N+-P+-P+-P+-N+-P+-P+-P+-N+-P+叉指结构形成U型器件,外部的两个P+区为保护环,在相邻的内部两个P+区之间使用多晶硅作为栅极来调控LED的正偏发光。使用奥林巴斯IC显示镜测得了硅LED实际器件的显微图形,并对器件进行了电学的正反向I-V特性测量。器件在室温下正向偏置,在100~140mA电流下对器件进行了光功率的检测,发光峰值在1089nm处。结果表明,器件发光功率随着栅控电压偏置电流的增加而增加。

    Abstract:

    A U type of Si-LED is designed and manufactured with the 0.35 μm EEPROM double grating standard CMOS technology.The device adopts a P+-N+-P+-P+-P+-N+-P+-P+-P+-N+-P+ comb structure,in which the two outside P+ is a protect ring,and a poly-Si gate between P+ region is designed to adjust the forward bias emitting light.The devices are tested with the Olympus IC microscope,and the I-Vcharacteristics and the spectra of the devices are presented.At room temperature,the LEDs are forward biased.The light...

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引用本文

杨广华.标准CMOS工艺栅控Si-LED设计与制备[J].光电子激光,2010,(5):

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