闪锌矿BxAl1-xAs合金的LP-MOCVD生长研究
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TN304.054

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国家“863”计划资助项目(2009AA03Z417); 国际科技合作计划重点资助项目(2006DFB11110); 高等学校学科创新引智计划资助项目(B07005)


LP-MOCVD growth of zinc-blende BxAl1-xAs alloys
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    摘要:

    利用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)生长工艺,采用三乙基硼(TEB)源,在GaAs(001)衬底上生长了B并入比为0.4%~4.4%的一系列BxAl1-xAs合金。实验结果表明,BxAl1-xAs的最优生长温度为580℃;当生长温度为550℃和610℃时,BxAl1-xAs中B并入比都会下降,550℃时B并入比下降更为显著。在580℃最优生长温度下,B并入比随着TEB摩尔流量增加而提高,且B并入比从临界值2.1%增加至最大值4.4%时,DCXRDω-2θ扫描BxAl1-xAs衍射峰的半高宽值从51.8 arcsec升高到204.7 arcsec,原子力显微镜(AFM)测试表面粗糙度从2.469 nm增大到29.086 nm,说明B并入比超过临界值后BxAl1-xAs晶体质量已经逐渐严重恶化。

    Abstract:

    A series of BxAl1-xAs alloys with boron composition ranging from 0.4% to 4.4% have been grown on GaAs(001) substrates by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition(LP-MOCVD),and triethylboron(TEB) has been used as the boron precursor.The experimental results demonstrate that 580 ℃ is the optimum temperature (Tg) of BAlAs growth;the boron composition of BxAl1-xAs alloys decreases at 550 ℃ and 610 ℃.At the optimum temperature of 580 ℃,the boron incorporation ratio increases with the incre...

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引用本文

李佳健.闪锌矿BxAl1-xAs合金的LP-MOCVD生长研究[J].光电子激光,2010,(8):

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