Ti-Al共掺ZnO薄膜的应力、结构和光电性能研究
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O484.2

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山东省自然科学基金资助项目(ZR2009GL015)


Study on the stress,structural and optic-electrical properties of Ti-Al co-doped ZnO films
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    利用直流磁控溅射工艺,在水冷玻璃衬底上成功沉积出了高透光、低电阻率的Ti-Al共掺ZnO(TAZO)透明导电薄膜。X射线衍射(XRD)研究结果表明,TAZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜。研究了TAZO薄膜的应力、结构以及光电性能与薄膜厚度的关系,结果表明,当薄膜厚为531 nm时,薄膜晶格畸变最小,具有最小压应力(绝对值)0.726 6 Gpa,同时具有最小电阻率3.35×10-4Ω.cm,其光学带隙大约为3.58 eV。所制备薄膜附着性能良好,在波长为400760 nm波段的可见光中平均透过率都超过了91%。 更多还原

    Abstract:

    The transparent conducting Ti-Al codoped zinc oxide(TAZO) films with high transparency and relatively low resistivity have been successfully prepared by direct current magnetron sputtering.Stress,micro-structural and optic-electrical properties of TAZO films were studied.The XRD results show that all the deposited films are polycrystalline with a hexagonal structure and a preferred orientation perpendicular to the substrates along the c-axis.The stress and the electrical resistivity decrease whe...

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    引证文献
引用本文

刘汉法. Ti-Al共掺ZnO薄膜的应力、结构和光电性能研究[J].光电子激光,2011,(3):400~403

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