基于不同单光子能量拉曼谱的氢化硅薄膜微观特性研究
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TN304.055

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国家自然科学基金资助项目(51175238);中国博士后科学基金特别资助项目(201003557);镇江市工业支撑资助项目(GY20100010);江苏省摩擦学重点实验室开放基金资助项目(kjsmcx1001)


Microstructure research of hydrogenated silicon film based on different excitation wavelength Raman scattering spectra
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    摘要:

    用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)在玻璃和单晶硅(c-Si)衬底上分别制备了氢化纳米硅(nc-Si:H)和非晶硅(a-Si:H)薄膜,用紫外、可见和近红外3种不同波长的激光线对不同形态的Si薄膜进行拉曼散射实验研究。研究发现,这些Si薄膜在不同的单光子能量的激光线激发下的拉曼谱线形也不同。进而通过对Si薄膜材料中光吸收系数、折射率、消光系数和穿透深度等的理论分析以及薄膜内部原子数密度及键能密度的计算,对实验结果进行了详细的解释。研究表明,在对Si薄膜微观特性的拉曼光谱研究中,应根据薄膜的具体厚度选择最合适的激发波长,才能对精细微结构获得更为深层次的认识。 更多还原

    Abstract:

    In this study,nanocrystalline silicon thin films and amorphous silicon thin films are grown on both the single crystalline silicon and glass substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition(PEVCO).Raman scattering is used on those films by three different excitation wavelengths,from red to near ultraviolet region.It shows that the Raman spectrum is different by varying the incident wavelength based on analyses of the incident light intensity energy,the photo absorption coefficient of sili...

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    引证文献
引用本文

王权,胡然,蒋力耘,丁建宁,何宇亮.基于不同单光子能量拉曼谱的氢化硅薄膜微观特性研究[J].光电子激光,2011,(10):1528~1531

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