InAs/InP量子点激光器制备工艺研究
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TN248

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广东省自然科学基金(S2011040001330)资助项目


Fabricating technique of InAs/InP quantum dot lasers
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    报道了通过化学湿刻蚀制备窄脊条InAs/InP量子点激光器的方法。激光器脊条主要是由半导体材料InGaAs和InP构成,通过选择合适配比的H2SO4∶H2O2∶H2O和H3PO4∶HCl腐蚀溶液和InP的腐蚀方向,在室温下选择性地腐蚀了InGaAs和InP,获得了窄脊条宽为6μm的量子点激光器。此激光器能够在室温连续波模式下工作,激射波长在光纤通信重要窗口1.55μm,单面最大输出功率超过12mW。

    Abstract:

    Narrow stripe of InAs/InP quantum dot laser is fabricated by the chemical wet etching method.The materials of stripe are composed of InGaAs and InP in systems of InAs/InP quantum dot laser.A vertical stripe with width of 6 μm is achieved by choosing suitable rate of H2SO4∶H2O2∶H2O and H3PO4∶HCl and etching orientation of InP at room temperature.The laser emits its wavelength in the fiber optical communication region around 1.55 μm under continuous-wave mode.More than 12 mW output power from one facet is obtained at room temperature.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

李世国,龚谦,王瑞春,王新中,陈朋,曹春芳,岳丽,刘庆博. InAs/InP量子点激光器制备工艺研究[J].光电子激光,2012,(1):94~97

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