GaN薄膜电子声成像和电子背散射衍射研究
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TG115.23

基金项目:

国家高技术研究发展计划“863”(2008AA03Z402);国家自然科学基金(61204011);北京市自然科学基金(4102003,4112006,4092007);北京工业大学博士科研启动基金(X0002013200901,X0002013200902)资助项目


Scanning electron acoustic microscopy and electron backscattering diffraction study of GaN/Al2O3 hetero-epitaxial layer film
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    采用扫描电声显微镜(SEAM)和电子背散射衍射(EBSD)对异质外延在Al2O3衬底上GaN界面区域成像测试分析。异质外延失配应力导致在Al2O3和GaN界面附近的微区晶格畸变在SEAM的声成像中可以清楚看到,而且受应力影响集中区域的微区衬度差异明显。利用EBSD色带图及质量参数分析了失配应力变化,晶格应变和弹性形变在200nm内可以得到释放。

    Abstract:

    The GaN hetero-epitaxial layer on sapphire(Al2O3) substrate is studied through scanning electron acoustic microscopy(SEAM) and electron backscattering diffraction(EBSD).The micro-area lattice distortion resulting from the hetero-epitaxy mismatch strain at the interface of GaN and sapphire is observed clearly,and the contrast of the micro-area in concentrated region affected by strain is different significantly.The color code map and quality parameter of the electron backscattering diffraction(EBSD) are used to analyze the variation of the mismatch strain,and the lattice strain and elastic deformation could be released within 200 nm.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

邢艳辉,李影智,韩军,邓旭光,吉元,徐晨,沈光地. GaN薄膜电子声成像和电子背散射衍射研究[J].光电子激光,2012,(10):1909~1912

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码