衬底温度对ZnO:N薄膜结构和光学性能的影响
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O484.1

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国家自然科学基金(11004092);大连市科学技术基金(2011J21DW013)资助项目


Effect of substrate temperature on structure and optical properties of ZnO:N thin films
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    利用超声喷雾热解方法,以不同的沉积温度(450~510℃)在石英衬底上制备出具备较高光学质量的氮掺氧化锌(ZnO:N)薄膜。通过X射线衍射(XRD)谱研究了薄膜的结构,用扫描电子显微镜(SEM)研究了薄膜的表面形貌,用紫外可见(UV)分光光度计、光致发光(PL)谱对薄膜的光学特性进行了测试分析。结果表明,所制备薄膜在可见波段具有较高透过率,并且沉积温度对ZnO:N薄膜的透过性能有很大影响。在衬底温度为500℃时得到的ZnO:N薄膜为六角纤锌矿结构,结晶质量最好、光透过率最高。PL谱的测试结果显示,在该条件制备的ZnO:N薄膜只在389.4nm处有一个较强的近带边紫外发光峰。

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引用本文

王玉新,孙景昌,郑亚茹,王晓玉,张焕,戴世飞,朱军.衬底温度对ZnO:N薄膜结构和光学性能的影响[J].光电子激光,2012,(11):2132~2136

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