修饰掺硼金刚石电极循环伏安法检测尿酸
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朱宁(1961-),男,研究员,主要从事薄膜材料领域的研 究.

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国家自然科学基金(50972105)和天津市重大科技攻关(06YFGZSH00300)资助项目 (1.天津理工大学 电子信息工程学院,天津市薄膜电子与通信器件重点实验室,天津300384;2.天津大学 精密仪器与光电子工程学院,天津 300072)


Detection of uric acid with modified boron-doped diamond electrodes by cyclic v oltammetry
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    摘要:

    用直流等离子体喷射化学气相沉积(CVD)法制备掺 硼金刚石(BDD)薄膜电极。通过扫描电镜(SEM)观察到薄膜表面分布均匀致密;霍尔测 试仪检测薄膜的电阻率为0.023Ω·cm,载流子浓度为6.423×1019 cm-3;循环伏安法(CVa)测得其电极电势窗为 3.4V;分析了浓度为10μmol/L的 尿酸(UA)溶液在BDD电极表面的电化学响应,表明扫描速率的平方根与氧化峰电流呈线性关 系。通过对比茜素黄、牛磺酸和L-半胱氨酸3种物质对BDD电极进行修饰,表明由L-半胱氨 酸修饰BDD电极的电催化氧化能力最强;在浓度为1×10-7~1×10-4 mol/L范围内,浓度的对数与氧化峰电流呈线性关系,且检测限为 1×10-8 mol/L。实验结果表明,20倍浓度的葡萄糖和抗坏血酸对UA的 检测不构成影响。

    Abstract:

    Boron-doped diamond (BDD) thin film e lectrode was made in hydrogen-argon carbon source by direct current (DC) plasm a jet chemical vapor deposition (CVD) method,and surface uniform and dense distr ibution can be seen by scanning electro microscopy (SEM).The resistivity is 0.023Ω·cm by the Hall test cytometry,and carrier concentration is 6.423×1019 cm-3.The potential window for electrode is 3.4V measured by cyclic voltammetry (CVa),and the boron-doped diam ond thin-film electrode′s electrochemical response is analyzed at 10μmol/L o f uric acid (UA).The scan rate is linear with oxidation peak current.In Alizarin yellow,taurine and L-cysteine modified BDD electrodes,the last one has the str ongest electrocatalytic oxidation.The experimental results show that when the co ncentration of UA within the range of 1×10-7-1×10-4 mol/L,the logarithm of the concentrationt is linear with the oxidation peak current,and t he detection limit is 1×10-8 mol/L.The 20-fold concentration of g lucose and ascorbic acid does not affect th e detection of uric acid.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

陈凯玉,朱宁,戴玮,张聪聪,尹振超,吴小国.修饰掺硼金刚石电极循环伏安法检测尿酸[J].光电子激光,2013,(5):1026~1031

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  • 收稿日期:2012-10-13
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