铟锡氧化物扩展层对LED抗静电及漏电性能的影响
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高志远(1982-),女,博士,研究生导师,主 要从事宽禁带半导体材料与技术、新型光电发光与探测器件方面的研究.

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国家自然科学基金青年基金(11204009)与北京工业大学博士科研启动基金(X0002013201101)资助项目 (1.北京工业大学 北京光电子技术实验室,北京 100124; 2.国家电网 智能电网研究院,北京 100192)


Research of the ITO current spreading layer′s effect on the LED antistatic and leakage ability
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    摘要:

    研究了以铟锡氧化物(ITO)薄膜作为电流扩展层及 出光窗口层的红光LED的漏电增加和抗静电能力下降的问题。结果发现,器件漏电和抗静 电能力造成危害的因素并非ITO本身,而是芯片切割过程中侧 壁的机械损伤和划片之后ITO颗粒沾污导致的PN结 短路。通过化学腐蚀工艺清保芯片切割处的ITO薄膜、切割过程中侧壁 的机械损伤痕迹和ITO颗粒的沾污,不仅使带ITO扩展层的LED器件的光提取效率提高 了10%以上,抗静电能力提高了1.6倍,而且器 件的漏电未受任何影响。

    Abstract:

    Aiming at solving the problem of the leakage increasing and the antistatic abili ty decreasing, which is caused by the indium tin oxide (ITO) applied for the red light LED as current spreading layer a nd window layer,the manufacture process of the LED device is studied step by step.T he ITO current spreading layer isn′t harm to the device′s leakage ability or antistati c ability, but the mechanical damage caused by the chip cutting and the short circuit of PN junctio n contamination with ITO particle are the reasons.The mechanical damage during the chip cuttin g and the ITO particle contamination can be avoided by chemically etching the ITO layer in the cutting position and then etching it over the PN junction.Compared with the traditional LED,the n ew type of LED with ITO current spreading layer is prepared in new processes.The light extract ion efficiency increases by about 10%,the antistatic ability increases by about 1.6times and the leakage ability is not affected.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

田亮,高志远,孙丽媛,邹德恕.铟锡氧化物扩展层对LED抗静电及漏电性能的影响[J].光电子激光,2013,(12):2289~2294

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  • 收稿日期:2013-03-05
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