MoO3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究
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作者:
作者单位:

(陕西科技大学 理学院,陕西 西安 710021)

作者简介:

杜帅(1990-),女,河北保定人,硕士研究生,主要从事 有机电致发光器件研究.

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:

国家自然科学基金(61076066)和陕西省科技统筹创新工程计划(2011KTCQ01-09)资助项目 (陕西科技大学 理学院,陕西 西安 710021)


Research on the effect of graphene oxide modified by MoO3as a hole injection layer
Author:
Affiliation:

(College of Science,Shaanxi University of Science and Technology,Xi′an 710021, China)

Fund Project:

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    摘要:

    研究了MoO3修饰氧化石墨烯(GO)作为空穴注入层的影响。采用旋涂的方法制备了GO, 再真空蒸镀修饰层MoO3,得到了空穴注入能力强和透过率高的复合薄膜。MoO3的厚分 别采用0、3、5和8nm。通过优化MoO3的厚度发现,当MoO3的厚为5nm时,复合薄膜 的透过率达到最大值,在 550nm的光波长下透光率为88%,且此时采用 复合薄膜作为空穴注入层制备的结构为 ITO/GO/MoO3(5nm)/NPB(40nm)/Alq3(40nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)的有机电致发光器件(OLED)性能 最佳。通过对OLED进一步的优化,改变Alq3的厚度,分别取50、60和70nm,测量其电压 、电流、亮度、色坐标和电致发光(EL)光谱等参数发现,当Alq3的厚为50nm时器件性能最 佳。最终制备了结构为ITO/GO/MoO3(5nm)/NPB(50nm)/Alq3(50nm)/LiF(1nm)/Al(100 nm)的OLED,在电压为10V时,最大电流效率达到5.87cd/A,与GO单独作为空穴注入层制备的器件相比,提高了50%。

    Abstract:

    The effect of graphene oxide (GO) modified by MoO3as a hole injection layer is studied.The GO was prepared by using spin-coating method,then the bu ffer layer MoO3was va cuum evaporated,and finally the composite film with high hole injection ab ility and transparency was obtained.The thicknesses of MoO3are respectively 0nm,3nm,5nm and 8nm.When the thickness of MoO3is 5nm,the composite fil m exhibits a transmission value of 88% at 550nm,and the organic light emitting diode (OLED) with the structure of indium tin oxide (ITO)/GO/MoO3(5nm)/naphthyl-substituted benzidine derivativ e NPB,40nm)/Alq3(40nm)/LiF(1nm)/Al(100nm) has the best performance.Then the OLED is further optim iz ed by changing the thickness of Alq3.The thicknesses of Alq3are 50nm,60n m and 70nm,respectively.By measuring the voltage,current,brightness,color coordinates,the electric light emission spectra and other parameters,it can be found that when the thickness of Alq3is 50nm ,the device has the best performance.The OLED device with the structure of ITO/GO/MoO3(5nm)/NPB(50nm) /Alq3(50nm)/LiF(1nm)/Al(100nm) was prepare d.The maximum current efficiency of 5.87cd/A at the voltage of 10V is obtained,which is 50% higher t han that of the devices with GO as hole injection layer.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

杜帅,张方辉. MoO3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究[J].光电子激光,2016,27(6):593~600

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  • 收稿日期:2016-01-05
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  • 在线发布日期: 2016-06-23
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