多晶硅太阳电池背表面刻蚀提升其性能的产线工艺研究
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

(1.湖州师范学院 理学院 应用物理系,浙江 湖州 313000; 2.浙江贝盛光伏股份有限公司 ,浙江 湖州 313008)

作者简介:

吕文辉(1981-),男,内蒙古赤峰人,博士,副 教授,从事晶硅太阳电池材料、物理及高效器件研究.

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:

浙江省重大科技专项重点工业项目(2013C01078)、 国家自然科学基金(61204068)、浙江省自然科学基金(LY15F040002)和中国科学院光电材料 化学与物理重点实验室开放基金(2008DP173016)资助项目 (1.湖州师范学院 理学院应用物理系,浙江 湖州 313000; 2.浙江贝盛光伏股份有限公司 ,浙江 湖州 313008)


Enhanced power conversion efficiency in multi-crystalline silicon solar cells using back surface etching for industrial production line application
Author:
Affiliation:

(1.Department of Applied Physics,College of Science,Huzhou University,Huzhou 313000,China; 2.Zhejiang Beyondsun PV Co.,Ltd.,Huzhou 313008,China)

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    对比研究了产线上多晶硅太阳电池背表面刻蚀对 其光电转换性能的影响。示范性实验结果表明:多晶硅太阳电池背表面刻蚀能够改善其短路 电流, 从而相应的光电转换效 率提升了约 0.1%。依据多晶硅太阳电池背表面刻蚀前后的扫描 电镜(SEM)形貌、背表面漫 反射光谱及完整电池片外量子效率的测试结果,改进的光电转换的原因可能源于背表面刻蚀 “镜面”化有利于太阳光子在背表面内反射和改进印刷Al浆与背表面覆盖接触。背表面刻蚀 与当前晶硅电池产线工艺兼容,能够提升电池片的光电转换效率,是一种可供选择的产线升 级工艺。

    Abstract:

    The effect of back surface etching on power conversion efficiency in multi-crystalline silicon solar cells is explored.The experimental results sho w that the short-circuit current is improved by the etching,and the power conve rsion efficiency is increased by 0.1%.Before or after the etching,the scanning electron microscope (SEM) morphology,the reflectance spectra of back surface an d the external quantum efficiency for multi-crystalline silicon solar cells are investigated to understand the enhanced power conversion efficiency.It may be attributed to that the etching leads to a "mirror" back surface in multi-crysta lline silicon solar cells,which is beneficial to solar photons internal reflection and aluminu m paste contact with the back surface.The back surface etching is an alternative up-gr ade process for production line of multi-crystalline silicon solar cells.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

吕文辉,陆波,龚熠,何一峰,张帅.多晶硅太阳电池背表面刻蚀提升其性能的产线工艺研究[J].光电子激光,2016,27(6):606~612

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:2015-12-03
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2016-06-23
  • 出版日期:
文章二维码