沉积速率对H4膜光学带隙及激光损伤特性的影响
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作者:
作者单位:

(1.西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安 710021; 2.白俄罗斯国 立信息与无线电电子大学,明斯克 220013,白俄罗斯)

作者简介:

徐均琪(1973-),男,陕西西安人,博士,教 授,硕士生导师,主要从事光学薄膜制造,薄膜特性检测方面的研究工作.

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:

国家自然科学基金(61378050)和科技部国际合作(2013DFR70620)资助项目 (1.西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安 710021; 2.白俄罗斯国立信息与无线电电子大学,明斯克 220013,白俄罗斯)


Influence of deposition rate on the optical bandgap and laser damage properties of H4films
Author:
Affiliation:

(1.Shaanxi Province Key Laboratory of Thin Film Technology and Optical Test,Xi ′an Technological University,Xi′an 710021,China; 2.Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics,Minsk 220013,Belarus)

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    摘要:

    采用电子束热蒸发技术在石英基底上制备了H4薄膜,并对其光学和激光损伤特性进行了研究。根据透射率谱计算出薄膜的光学带隙发现, 光学带隙随着沉积速率的降低而增大, 其值大小在4.66~4.73eV。椭偏测试结果表明,当沉积速率从0.92nm/s、0.17nm/s、0.08nm/s降低到0.03nm/s时,薄膜折射率从1.955、1.919、1.901降低到 1.895(1064nm)。所有 样品的消光系数量级均优于10-5,说明薄膜表现出极小的吸收。薄膜的激光损伤形 貌和激光损伤 阈值(LIDT)受沉积速率的影响不大,同一激光能量作用下 ,薄膜的损伤斑大小基本一致,但0.92nm/s 时制备的薄膜,其损伤区与未损伤区存在相互交错现象。当沉积速率从0.03nm/s变化到 0.92nm/s时,薄膜 激光损伤阈 值在16~17J/cm2(1064nm,10ns)之间。

    Abstract:

    H4films were prepared on quartz substrates by electronic beam vapor d eposition technique,and the optical and laser damage properties were investigated.Based o n transmittances of the samples,the calculated optical band gaps are 4.66~4.73eV,which are incr eased with decrease of the deposition rate.The ellipsometric results show that the refractive index is decr eased from 1.9552,1.9198,1.9018to 1.8954(1064nm) with the decrease of deposition rate from 0.92nm/s,0.17nm/s,0.08nm/s to 0.03nm/s.For all the samples prepared in this paper,the ex tinction coefficients are all below 10-5.The deposition rates almost can not affect the laser damage morphology and properties of H4films.When all the samples are broken a t the same laser energy,similar damage spot sizes are obtained.The boundary between damage and un -damage areas of the film prepared at the deposition rate of 0.92nm/s is interlocking while oth ers are not.The laser-induced damage thresholds (LIDT) of the films ar e stable with the value of 16~17J/cm2(1064nm, 10ns)while the deposition rates change from 0.03nm/s to 0.92nm/s.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

徐均琪,苏俊宏,杭良毅,基玛·格拉索夫.沉积速率对H4膜光学带隙及激光损伤特性的影响[J].光电子激光,2016,27(10):1054~1059

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  • 收稿日期:2015-09-27
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  • 在线发布日期: 2016-11-07
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